Irgacure PAG203
- メーカー
- BASFジャパン株式会社
- 製品名
- Irgacure PAG203
- 一般名
- 光酸発生剤
- 重合系
- 酸発生剤、オキシムスルホネート系
- 化学式
- Oximester-Photo acid generator
- サンプル量
- 10g
はたらき
光酸発生、化学増幅
特徴
248nm(KrF)に対して高い感度、高い熱安定性、優れた溶解性、低揮発性
説明
オキシムスルホネート系非イオン性光酸発生剤(PAG)。溶剤溶解性に優れ、揮発性が低い。感度が高くかつ透明性に優れ、半導体・ディスプレイ等用途向けの化学増幅型レジストにおいて幅広いフォーミュレーションの可能性を提供。Deep-UV に対して低吸収にもかかわらず高い感度を持つことから、特にKrF エキシマレーザ(248nm)を用いた半導体レジスト材料で使用されている。熱安定性が高く(<188℃)、高温ベーク型レジストにも適する。
CAS番号
非公表
化審法番号
登録なし(少量新規物質)
ポリ衛協番号
分子量
662.63
密度
融点下限(℃)
60
融点上限(℃)
64
吸収波長ピーク
最大波長 (nm)
外観
白色
性状
粉体